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Équipe MATISEN: Matériaux pour les technologies de l’information, les capteurs et la conversion d’énergie.

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Cette plate-forme se décline en deux composantes.
Cette plate-forme se décline en deux composantes.


'Plateau faisceaux d’ions'
=Plateau faisceaux d’ions=
Le plateau faisceaux d’ions comprend :
Le plateau faisceaux d’ions comprend :


un implanteur EATON 200 kV pour la modification des matériaux
*un implanteur EATON 200 kV pour la modification des matériaux
un accélérateur Van de Graaff 4 MV pour la modification et l’analyse des matériaux
*un accélérateur Van de Graaff 4 MV pour la modification et l’analyse des matériaux
des équipements d’analyses par faisceaux d’ions
*des équipements d’analyses par faisceaux d’ions
des logiciels de simulation de l’analyse par faisceaux d’ions
*des logiciels de simulation de l’analyse par faisceaux d’ions


'Plateau salle blanche et équipements périphériques'
=Plateau salle blanche et équipements périphériques=
La mise au point de matériaux et dispositifs électroniques performants nécessite des procédés d’élaboration et de traitement sophistiqués. Certaines étapes recquièrent une atmosphère contrôlée, tandis que pour d’autres les conditions de mise en œuvre sont moins sévères. Vous trouverez ci-dessous des informations plus détaillées concernant :
La mise au point de matériaux et dispositifs électroniques performants nécessite des procédés d’élaboration et de traitement sophistiqués. Certaines étapes recquièrent une atmosphère contrôlée, tandis que pour d’autres les conditions de mise en œuvre sont moins sévères. Vous trouverez ci-dessous des informations plus détaillées concernant :


les procédés d’élaboration et de traitement
*les procédés d’élaboration et de traitement
la salle blanche
*la salle blanche
les équipements périphériques
*les équipements périphériques

Version du 22 août 2013 à 14:03


Cette plate-forme regroupe un ensemble d’équipements destinés à des études allant de la physique fondamentale jusqu’à l’élaboration de petits dispositifs ou démonstrateurs dans le domaine des micro- et nanotechnologies et du photovoltaïque. L’un de ses axes fort réside dans la spécificité des techniques qui ont été développées pour les procédés du photovoltaïque.

Cette plate-forme se décline en deux composantes.

Plateau faisceaux d’ions

Le plateau faisceaux d’ions comprend :

  • un implanteur EATON 200 kV pour la modification des matériaux
  • un accélérateur Van de Graaff 4 MV pour la modification et l’analyse des matériaux
  • des équipements d’analyses par faisceaux d’ions
  • des logiciels de simulation de l’analyse par faisceaux d’ions


Plateau salle blanche et équipements périphériques

La mise au point de matériaux et dispositifs électroniques performants nécessite des procédés d’élaboration et de traitement sophistiqués. Certaines étapes recquièrent une atmosphère contrôlée, tandis que pour d’autres les conditions de mise en œuvre sont moins sévères. Vous trouverez ci-dessous des informations plus détaillées concernant :

  • les procédés d’élaboration et de traitement
  • la salle blanche
  • les équipements périphériques